Application of higher harmonic frequencies generated in RF plasmas for monitoring of deposition processes
Název česky | Aplikace vyšších harmonických frekvencí vznikajících ve vf. plazmatu pro monitorování depozičních procesů |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2011 |
Druh | Konferenční abstrakty |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Popis | Analýza vyšších harmonických frekvencí vznikajících ve vf. plazmatu s ohledem na jejich využití při monitorování plazmových procesů. |
Související projekty: |