Role of Neutral Gas Temperature on Hysteresis Behaviour of Reactive Sputtering Deposition Process

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Fakultu sportovních studií, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Vliv teploty neutralniho plynu na hysterezni chovani reaktivniho magnetronoveho naprasovani
Autoři

VAŠINA Petr HYTKOVÁ Tereza ELIÁŠ Marek

Rok publikování 2008
Druh Článek ve sborníku
Konference Programme and Abstract Book of 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, Prague, Czech Republic, 16.-19.June 2008
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova hysteresis; reactive sputtering
Popis Teoretická studie vlivu teploty neutrálního plynu na chování reaktivního magnetronového naprašování
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info