Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Fakultu sportovních studií, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Kontrola reaktivního naprašování pomocí analýzy harmonických frekvencí napětí vf. výboje
Autoři

DVOŘÁK Pavel VAŠINA Petr

Rok publikování 2008
Druh Článek ve sborníku
Konference 19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://www.escampig2008.csic.es/
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova magnetron; reactive sputtering; plasma; discharge; higher harmonics;
Popis Kontrola reaktivního magnetronového naprašování pomocí měření základní a vyšších harmonických frekvencí výbojových napětí.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info