Měření nanodrsnosti pomocí optických metod a mikroskopie atomové síly
Autoři | |
---|---|
Rok publikování | 2005 |
Druh | Článek ve sborníku |
Konference | Kvalita a GPS 2005 |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
www | http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/KGPS05_131.html |
Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
Klíčová slova | Drsnost; AFM; Elipsometrie; Odrazivost |
Popis | V tomto příspěvku je podán přehled statistických veličin charakterizujících náhodně drsné povrchy, které jsou významné z hlediska praxe. Dále jsou popsány způsoby měření těchto veličin pomocí mikroskopie atomové síly a optické metody založené na kombinaci spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie. Tyto způsoby jsou ilustrovány prostřednictvím výsledků dosažených u náhodně drsných povrchů monokrystalu křemíku a u drsných horních rozhraních tenkých vrstev TiO2. Obdržené výsledky u obou druhů náhodně drsných povrchů pomocí kombinované optické metody a mikroskopie atomové síly jsou vzájemně srovnány. Je také provedena diskuse chyb, které mohou ovlivnit hodnoty statistických veličin určených pomocí mikroskopie atomové síly. V tomto příspěvku navíc ukážeme, že pomocí obou výše zmíněných experimentálních technik je možné provést i kvantitativní charakterizaci náhodně drsných povrchů vykazujících nanometrický charakter, tj. povrchů jejichž výškové nerovnosti jsou popsány standardními odchylkami s hodnotami menšími než 10 nm. Zároveň také ukážeme, že v případě nanometricky drsných povrchů je nutné z principiálních důvodů očekávat zřetelné rozdíly v hodnotách jejich statistických veličin určených pomocí mikroskopie atomové síly na jedné straně a pomocí kombinované optické metody na straně druhé. |
Související projekty: |