Electrical and dielectrical properties of SiOxHyCz thin films prepared by PECVD

Varování

Publikace nespadá pod Fakultu sportovních studií, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Elektrické a dielektrické vlastnosti tenkých vrstev SiOxHyCz připravených PECVD
Autoři

FRANCLOVÁ Jana BURŠÍKOVÁ Vilma

Rok publikování 2005
Druh Článek ve sborníku
Konference Juniormat 05
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Dielectrical properties; Frenkel-Poole conduction
Popis Tenké vrstvy SiOxHyCz připravené plazmochemickou depozicí o tloušťce 100 - 500 nm vykazují Frenkel-Poole efekt. Velikost Frenkel-Poolova koeficientu roste s depoziční dobou.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info