Interdiffusion in amorphous Nb/Si multilayers

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Fakultu sportovních studií, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

BOCHNÍČEK Zdeněk VÁVRA Ivo

Rok publikování 2000
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Materials Letters
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova Nb/Si multilayer; Interdiffusion; Thermal stability
Popis The interdiffusion in amorphous Nb/Si multilayers has been studied using x-ray optical reflection and TEM in temperature range from 150degC up to 350degC. In the whole temperature scale the experimental data show that annealing causes interface shift without any other detectable change of multilayer parameters, namely period and interface roughness. The model based on diffusion of Si into Nb has been proposed which fits very well Arrhenius relation for diffusion coefficient and provides values comparable with previously published ones.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info