Analysis of thin films with slightly rough boundaries
Autoři | |
---|---|
Rok publikování | 1998 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Mikrochim. Acta |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
www | http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/MA15_177.html |
Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
Klíčová slova | Spectroscopic Ellipsometry; Spectroscopic Reflectometry; Atomic Force Microscopy |
Popis | In this paper presented method is based on a combination of variable angle spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and atomic force microscopy enabling us to determine the optical parameters and most significant statistical parameters of the rough boundaries characterizing the slightly rough single layers. |
Související projekty: |