Strain relaxation and misfit dislocations in compositionally graded Si 1-x Ge x layers on Si (001)

Varování

Publikace nespadá pod Fakultu sportovních studií, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

LI J.H. HOLÝ Václav

Rok publikování 1995
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Journal of Crystal Growth
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info