Low temperature temporal and spatial atomic layer deposition of TiO2 films

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Fakultu sportovních studií, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

AGHAEE Morteza MAYDANNIK Philipp JOHANSSON Petri KUUSIPALO Jurkka CREATORE Mariadriana HOMOLA Tomáš CAMERON David Campbell

Rok publikování 2015
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Journal of Vacuum Science & Technology A
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://scitation.aip.org/content/avs/journal/jvsta/33/4/10.1116/1.4922588
Doi http://dx.doi.org/10.1116/1.4922588
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova ALD
Popis Titanium dioxide films were grown by atomic layer deposition (ALD) using titanium tetraisopropoxide as a titanium precursor and water, ozone, or oxygen plasma as coreactants.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info