Monitoring of PVD, PECVD and etching plasmas using Fourier components of RF voltage

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Fakultu sportovních studií, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Monitoruvání PVD, PECVD a leptacích plazmových procesů pomocí Fourierových komponent vf. napětí
Autoři

DVOŘÁK Pavel VAŠINA Petr BURŠÍKOVÁ Vilma ŽEMLIČKA Radek

Rok publikování 2010
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Plasma Physics and Controlled Fusion
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www https://iopscience.iop.org/article/10.1088/0741-3335/52/12/124011
Doi http://dx.doi.org/10.1088/0741-3335/52/12/124011
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova plasma; higher harmonic frequencies; capacitively coupled discharge; reactive magnetron sputtering; DLC
Popis Fourierovy složky výbojového napětí a napětí nekompenzované sondy byly použity k monitorování dvou různých depozičních procesů. Byly testovány fyzikální důvody reakce Fourierových složek na přítomnost vrstvy.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info