Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas

• Název česky: Potlačené hysterezní chování naprašování titanu v acetylenu
• Autoři: SCHMIDTOVÁ Tereza; VAŠINA Petr; ELIÁŠ Marek
• Rok publikování: 2010
• Druh: Konferenční abstrakty
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Citace: SCHMIDTOVÁ, Tereza, Petr VAŠINA a Marek ELIÁŠ. Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas. 2010.
• Popis: Suppressed hysteresis behaviour of Ti sputtering in acetylene gas. Modelling of hybrid PVD-PECVD process.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
• Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace