Characterization of thin oxide films on GaAs substrates by optical methods and atomic force microscopy

Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Fakultu sportovních studií, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Charakterizace tenkých oxidových vrstev na GaAs podložkách pomocí optických metod a mikroskopie atomové síly
Autoři

FRANTA Daniel OHLÍDAL Ivan KLAPETEK Petr OHLÍDAL Miloslav

Rok publikování 2004
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Surface and Interface Analysis
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/SIA36_1203.html
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova THERMAL-OXIDATION; ROUGH BOUNDARIES; LAYERS
Popis V tomto článku jsou uvedeny výsledky charakterizace tenkých oxidových vrstev připravených na podložkách z monokrystalu GaAs jejich termickou oxidací při teplotě 500o C ve vzduchu. Charakterizace je realizována pomocí optických metod a mikroskopie atomové síly. Optická charakterizace je provedena využitím vícevzorkové modifikace metody založené na kombinaci víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie aplikované při téměř kolmém dopadu světla. Je ukázáno, že vrstvy vykazují drsná spodní rozhraní a profil indexu lomu. Spektrální závislosti indexu lomu a extinkčního koeficientu těchto vrstev jsou presentovány v široké spektrální oblasti, tj. v oblasti 210-900 nm. Hodnoty tlouštěk a parametrů drsnosti charakterizující oxidové vrstvy jsou také uvedeny.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info