Complete Characterization of Rough Polymorphous Silicon Films by Atomic Force Microscopy and the Combined Method of Spectroscopic Ellipsometry and Spectroscopic Reflectometry
| Název česky | Úplná charakterizace drsných polymorfních křemíkových vrstev pomocí mikroskopie atomové síly a kombinované metody spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2004 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Thin Solid Films |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| www | http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/TSF455_399.html |
| Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
| Klíčová slova | Ellipsometry; Reflection; Optical properties; Polymorphous materials |
| Popis | V článku jsou uvedeny výsledky týkající se úplné charakterizace hydrogenovaných polymorfních křemíkových (pm-Si:H) vrstev deponovaných na podložky z monokrystalického křemíku získané pomocí mikroskopie atomové síly (AFM) a kombinované metody spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie. Tato kombinovaná metoda je aplikována ve formě vícevzorkové modifikace. Experimentální data jsou měřena v rámci blízké ultrafialové, viditelné a blízké infračervené oblasti (190-1000 nm). Pro zpracování experimentálních dat je využit dispersní model nedávno formulovaný pro amorfní chalkogenidové vrstvy. Tento model je založen na parametrizaci hustoty stavů elektronů. Navíc je využit pro zpracování experimentálních dat strukturní model obsahující defekty, tj. drsnost horních rozhraní vrstev, povrchové vrstvy, přechodové mezivrstvy a profil indexu lomu. Výsledky charakterizace se sestávají z určení spektrálních závislostí optických konstant p-m:Si vrstev a hodnot parametrů popisujících defekty těchto vrstev. |
| Související projekty: |
|