Deposition Process Based on Organosilicon Precursors in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure - A Comparison

• Autoři: SONNENFELD Axel; TUN T. M.; ZAJÍČKOVÁ Lenka; KOZLOV K. V.; WAGNER H.-E.; BEHNKE J. F.; HIPPLER R.
• Rok publikování: 2001
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Plasmas and Polymers
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: DBD
• Popis: Deposition Process Based on Organosilicon Precursors in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure - A Comparison

Související projekty

• Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu