X-ray diffraction and reflectance, raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers

Varování

Publikace nespadá pod Fakultu sportovních studií, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	LÍBEZNÝ Milan HOLÝ Václav KUBĚNA Josef
Rok publikování	1993
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Thin Solid Films
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova	X-ray diffraction and reflectance; raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers
Popis	X-ray diffraction and reflectance, raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers
Související projekty:	Fyzikální vlastnosti nových materiálů a vrstevnatých struktur