Nano-modification of Si-wafer surfaces using low-cost ambient air diffuse plasma

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Fakultu sportovních studií, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

HOMOLA Tomáš PRYSIAZHNYI Vadym STUPAVSKÁ Monika

Rok publikování 2015
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj International Journal of Nanomanufacturing
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://www.inderscience.com/info/inarticle.php?artid=75226
Doi http://dx.doi.org/10.1504/IJNM.2015.075226
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova nano-modification;silicon wafer;surface treatment;diffuse plasma;DBD
Popis In this paper, we demonstrated the cleaning and nano-oxidation of Si-wafer surfaces by atmospheric pressure plasma, generated in ambient air using diffuse coplanar surface barrier discharge. Plasma treatment for one second resulted in a significant reduction of water contact angle. The increase in wettability was observed and explained by chemical changes on the analysed Si-wafer surfaces. These changes were analysed by X-ray photoelectron spectroscopy which showed a considerable decrease in the presence of carbon and a significant increase of oxygen on the analysed surfaces.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info