Ellipsometric characterization of inhomogeneous non-stoichiometric silicon nitride films

Logo poskytovatele
Logo poskytovatele

Varování

Publikace nespadá pod Fakultu sportovních studií, ale pod Středoevropský technologický institut. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Název česky Elipsometrická charakterizace nehomogenních nestechiometrických vrstev nitridu křemíku
Autoři

NEČAS David FRANTA Daniel OHLÍDAL Ivan PORUBA Aleš WOSTRÝ Petr

Rok publikování 2013
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Surface and Interface Analysis
Fakulta / Pracoviště MU

Středoevropský technologický institut

Citace
www http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/sia.5250/abstract
Doi http://dx.doi.org/10.1002/sia.5250
Obor Optika, masery a lasery
Klíčová slova optical characterization; variable-angle spectroscopic ellipsometry; phase-modulated ellipsometry; inhomogeneous films; silicon nitride films
Přiložené soubory
Popis Víceúhlová spektroskopická elipsometrie je využita k optické charakterizace nestechiometrických vrstev nitridu křemíku vykazujících nehomogenitu tvořenou změnami indexu lomu a extinkčního koeficientu napříč tloušťkou vrstvy. Pro všechny vzorky je dosaženo nejlepšího fitu experimentálních dat, pokud se k nehomogenitě navíc předpokládá horní vrstva nebo drsnost horního rozhraní. Rozlišit mezi těmito dvěma defekty bylo ovšem shledáno nemožným. Je studován vliv poměru pracovních plynů, deposiční teploty a střídy na vlastnosti vrstev. Je shledáno, že index lomu a extinkční koeficient roste s rostoucím poměrem pracovních plynů a méně významně s klesající deposiční teplotou. Dále je shledáno, že nehomogenita roste s rostoucí deposiční teplotou a deposiční rychlost klesá s rostoucím poměrem pracovních plynů. Vliv střídy na vlastnosti vrstev je prakticky nedůležitý.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info